BV-10 優雅且易于使用，可在 0.1 至 100 μm 之間對微量移液器吸頭進行精確斜切。的磨料板驅動系統無振動，可更好地控制坡口過程。 坡口可以非常快速地完成，并使用 Brown 和 Flaming 描述的技術產生一致的直徑，科學，1974 年 8 月，第 185 卷。

細胞內記錄電極可以從斜切中受益，因為：

• 通過在電極上形成尖銳的來減直徑

• 由于管腔的橫截面積較大，電極的電阻降低。

這極大地促進了穿透和容納非常小或難以處理的細胞。顯微注射針也受益于斜切，因為它可以促進進入細胞，同時損傷最小 增強材料通過針的流動。

基本的坡口系統由一個固定的基座組成，光學平坦到半波 （250 nm），表面安裝在一個沉重的基板上。它用作涂有磨料的玻璃研磨板的軸承， 這也是平坦到半波的。平面磨料板通過磁場耦合到低振動、低速電機上，以提供無擺動的平面磨削表面。磨盤是 采用專有工藝制造，可確保一致的磨料涂層。

2 軸顯微作器可固定要斜切的移液器，并允許受控地推進到磨料表面。斜角和前進速度是可調的。帶鵝頸管的 LED 燈 通過為研磨板和移液器提供清晰的照明來增強坡口作。

基本系統配有兩個您選擇的研磨板、一個帶支架的燈芯（用于濕式坡口）、底座油、脫脂液和手動。

有兩種選項可用于監控坡口過程，一臺 40X 體視顯微鏡和一臺電極阻抗計。根據您的研究應用，可能需要這些選項中的一個或兩個。 對于所有微量移液器應用，水平安裝式顯微鏡增強了您對移液器在研磨板上前進的控制，并允許查看斜切作（示波器分辨率不 足以查看實際斜面，除非非常大）。對于微電極應用，阻抗計用于監測坡口作期間的電阻。儀表 是一種模擬設計，提供三個電阻范圍（0-10、0-100、0-500 MOhm）。在 12 Hz 下進行測量，以最大限度地減少電容對測量阻抗的貢獻，并提供接近真實的直流電阻 價值。使用快速滾降來減少 50/60 Hz 干擾，允許在實驗室環境中作而無需篩選

美國Sutter BV-10  鍛針儀 磨針儀  美國Sutter BV-10  鍛針儀 磨針儀。